一、设备用途及工艺条件简述
1.1、设备用途：粉体材料在氧化性气氛中的连续性烧成。
1.2、装料方式：将物料装于匣钵中，再将匣钵置于碳化硅移进板上，由辊棒传动碳化硅移进板在窑内移动，坩埚三排双层放置。
1.3、窑内气氛：空气。物料在烧成过程中会产生水蒸气等少量废气，废气中不含腐蚀性成分。
二、主要技术参数及要求
2.1、 额定温度： 900ºC。
2.2、 常用温度： 800ºC。
2.3、 额定功率： 220 KW。
2.4、 保温功率： 140 KW
2.5、 供电电源： 380V
2.6、 加热区数： 15区
2.7、 控温点数： 22点
2.8、 加热方式： 上下加热，恒温区上下分别控温
2.9、 加热元件： 高温电阻丝
2.10、控温精度： ≤±1ºC
2.11、截面温差（恒温段）： ≤±8ºC
2.12 炉膛尺寸（L×W×H）： 21975×850×200mm
2.13、工作区尺寸（L×W×H）： 21975×750×160mm
2.14、移进板尺寸（L×W×H）： 250×340×12mm(需方自备)
2.15、窑体外形尺寸约（L×W×H）： 24000×2200×1650mm
