一、设备用途及工艺条件简述
1.1、设备用途:粉体材料在氧化性气氛中的连续性烧成。
1.2、装料方式:将物料装于匣钵中,再将匣钵置于碳化硅移进板上,由辊棒传动碳化硅移进板在窑内移动,坩埚双排三层放置。
1.3、窑内气氛:空气。物料在烧成过程中会产生水蒸气等少量废气,废气中不含腐蚀性成分。
二、主要技术参数及要求
2.1、 额定温度: 900ºC。
2.2、 常用温度: 800ºC。
2.3、 额定功率: 680 KW(全功率800KW)
2.4、 保温功率: 450 KW(取决于物料及进气量)
2.5、 供电电源: 380V
2.6、 加热区数: 19区
2.7、 控温点数: 19点
2.8、 加热方式: 上下加热
2.9、 加热元件: 高温电阻丝
2.10、控温精度: ≤±1ºC
2.11、截面温差(恒温段): ≤±8ºC
2.12 炉膛尺寸(L×W×H): 40000×960×390mm
2.13、工作区尺寸(L×W×H): 40000×800×340mm
2.14、移进板尺寸(L×W×H): 400×400×12mm(需方自备)
2.15、坩埚 尺寸(L×W×H): 380×380×100mm(需方自备)
2.16、窑体外形尺寸约(L×W×H): 45000×3000×1800mm
2.17、传送速度: 1000—2500 mm/h
2.18、常用速度: 1590mm/h
2.19、调速方式: 变频调速
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